مواد تبخیری مانند فلزات، ترکیبات و غیره در بوته قرار می گیرند یا در سیم داغ به عنوان منبع تبخیر آویزان می شوند و زیربن هایی که مانند فلزات، سرامیک، پلاستیک و غیره قرار می گیرند، در مقابل بوته قرار می گیرند. بعد از اینکه سیستم به یک خلاء بالا پمپ می شود، مواد با حرارت دادن بوته تبخیر می شوند. اتم ها یا مولکول های مواد تبخیر شده بر روی سطح سوبسترا به شکل چگالنده پوشیده می شوند. ضخامت فیلم می تواند از صدها انستروم تا چند میکرومتر باشد. ضخامت فیلم با سرعت تبخیر و زمان منبع تبخیر (و یا بسته به مقدار شارژ) تعیین می شود و به فاصله بین منبع و زیر بستگی دارد. برای پوشش بزرگ سطح، بستر چرخش یا چند منبع تبخیری اغلب برای اطمینان از یکنواختی ضخامت فیلم استفاده می شود. فاصله از منبع تبخیر تا بستر باید کمتر از میانگین آزاد مولکول های بخار در گاز باقی مانده باشد تا مولکول های بخار با مولکول های گاز باقی مانده مواجه نشوند تا باعث واکنش های شیمیایی شوند. متوسط انرژی جنبشی مولکول های بخار حدود 0.1-0.2 ولت الکترونی است.
مواد تبخیری مانند فلزات، ترکیبات و غیره در بوته قرار می گیرند یا در سیم داغ به عنوان منبع تبخیر آویزان می شوند و زیربن هایی که مانند فلزات، سرامیک، پلاستیک و غیره قرار می گیرند، در مقابل بوته قرار می گیرند. بعد از اینکه سیستم به یک خلاء بالا پمپ می شود، مواد با حرارت دادن بوته تبخیر می شوند. اتم ها یا مولکول های مواد تبخیر شده بر روی سطح سوبسترا به شکل چگالنده پوشیده می شوند. ضخامت فیلم می تواند از صدها انستروم تا چند میکرومتر باشد. ضخامت فیلم با سرعت تبخیر و زمان منبع تبخیر (و یا بسته به مقدار شارژ) تعیین می شود و به فاصله بین منبع و زیر بستگی دارد. برای پوشش بزرگ سطح، بستر چرخش یا چند منبع تبخیری اغلب برای اطمینان از یکنواختی ضخامت فیلم استفاده می شود. فاصله از منبع تبخیر تا بستر باید کمتر از میانگین آزاد مولکول های بخار در گاز باقی مانده باشد تا مولکول های بخار با مولکول های گاز باقی مانده مواجه نشوند تا باعث واکنش های شیمیایی شوند. متوسط انرژی جنبشی مولکول های بخار حدود 0.1-0.2 ولت الکترونی است.
سه نوع منبع تبخیر وجود دارد. (1) منبع حرارت گرمایی: یک فلز مقاوم در برابر آتش مانند تنگستن یا تانتالوم برای تشکیل یک فویل قایق یا یک رشته ای که از طریق جریان الکتریکی گرم می شود، در بالای آن گرم می شود یا در یک بوته قرار می گیرد (شکل 1 [نمودار مختصات تبخیر پوشش تجهیزات]) منبع به طور عمده برای تبخیر Cd، Pb، Ag، Al، Cu، Cr، Au، Ni و مواد دیگر استفاده می شود. منبع تغذیه القایی فرکانس بالا: از جریان القایی فرکانس بالا برای حرارت دادن مواد هلیوم و تبخیر استفاده کنید. 3 منبع حرارت گرم پرتو الکترون: مناسب برای مواد با دمای تبخیر بالا (کمتر از 2000 [618-1]) است که بمباران مواد با پرتو الکترون به تبخیر است.